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真空鍍膜機(jī)

電子槍蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機(jī)

產(chǎn)品分類：真空鍍膜機(jī)
點(diǎn)擊次數(shù)：4004
發(fā)布時(shí)間：2019-07-18
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產(chǎn)品詳情

應(yīng)用范圍：

    

   精密光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜。如濾光片、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)0-200層膜的膜系鍍膜。

 

   

  

   

產(chǎn)品特點(diǎn)：

   配置高精密的電子槍和離子源。集成電阻蒸發(fā)，鍍膜工藝和膜厚自動(dòng)控制，薄膜質(zhì)量穩(wěn)定 。 

 

 

電子槍蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機(jī)參考選型

 

項(xiàng)目

技術(shù)指標(biāo)



型號(hào) 

KVE- 1320

KVE -1600

KVE-2000

腔體

?1320×H1200mm

?1600×H1300mm

?2000×H1400mm

工件架轉(zhuǎn)速

0~60RPM（可變）



成膜室抽速

3.0×10-3Pa≤30min



極限真空度

8.0×10-5Pa



鍍膜系統(tǒng)

電子槍蒸發(fā) 、電阻蒸發(fā)



濺射靶材

C、Si 、Nb、Cr、Al、Ti 和各種化合物等 



膜厚控制

晶控或光控



控制系統(tǒng)

工控電腦+觸摸屏